杭州朗为科技有限公司成立于2015年，总部坐落在美丽的西子湖畔—杭州，是一家以打造真空设备中国“芯”为企业愿景，以让核心部件选配更简单，更丰富为使命，专注从事磁控溅射阴极和离子源产品的研发、生产、销售的国家高新技术企业。

公司主要产品有：平面圆形磁控溅射阴极，平面条形磁控溅射阴极，圆柱旋转磁控溅射阴极，阳极层离子源，考夫曼离子源，ICP等离子体源等。产品主要应用于大面积玻璃镀膜领域：low-e 玻璃，阳光控制玻璃，汽车玻璃，太阳能电池；半导体，电子镀膜领域：MEMS，电子元器件，LED，LCD等；磁盘，硬盘镀膜领域：铁磁性膜；装饰镀膜领域：表壳、手机壳、笔记本外壳，和饰品等；精密光学领域：手机摄像头，光通讯模块，激光器等，此外，在工具、模具、刀具镀膜等领域也有着广泛的应用。

公司拥有一支专业、稳定、年轻、经验丰富的人才队伍，通过良好的激励机制开展技术创新，通过多年的行业积累以及潜心产品开发，在已经占领国内技术高点的基础上再次创新，向国际一流水平发起冲锋，并逐步得到国内外知名客户的认可。

除了自身努力钻研，提高产品性能，为了保证产品的前瞻性，公司同时取得国际一流品牌相似产品的代理权，如果美国ANGSTROM公司的全系列磁控溅射阴极产品，美国KRI公司的全系列离子源产品，通过代理过程中的沟通，了解到该产品在国际上的最新发展趋势，从而为本公司的产品研发提供方向。