圆柱旋转阴极

技术参数：

特点：

端头部分：

•  内部绝缘处理，外露件不导电，运行安全稳定；

•  绝缘采用进口PEEK材质，保证端头强度与绝缘性能；

•  采用大电流电刷，保证阴极大电流稳定工作；

•  接线电缆直接与电刷连接，提高导电效果；

•  密封轴喷涂超高硬度涂层，超长密封寿命；

•  进口定制油封，延长油封使用周期；

磁棒部分：

• 磁钢自身多重涂层防护；

• 磁钢与水隔离，根源上杜绝失效风险；

• 全域均匀刻蚀，提高靶材利用率；

• 多种磁场调节方式，磁场均匀性可可达±1%；

• 溅射方向在线可调，动态优化膜层均匀性；

• 小磁场发散角设计，提升溅射速率减少腔体污染；

功能：

用于各类金属和非金属靶材的溅射沉积，生产装饰、光学及各类功能膜层

应用范围：

真空镀膜领域生产装饰、光学和各类功能膜

安装方式：

               背包式                                                     插入式

            端头在真空腔内，结构紧凑，磁路效率高                                        端头在大气侧，维护便捷

图片、细节图：

磁棒实拍图：

自研对向圆柱旋转阴极：

结构：双阴极平行对置，基板位于对称中心。

优势：高密度等离子体被约束在两靶之间，有效过滤高能粒子，保护基底。

• 显著降低基板温升，适配热敏感材料/工艺；

• 实现卓越膜层均匀性，满足高精度镀膜需求；

• 支持长效连续量产，减少停机成本；

• 极致提升靶材利用率，降低单位镀膜耗材成本；

朗为拥有高效的自主研发能力，可根据客户需求提供针对性解决方案

规格尺寸定制：可按客户尺寸提供整套阴极产品，支持靶材外径 / 长度、安装接口、腔体适配尺寸定制，兼容现有真空腔体；

结构设计定制：可按要求提供卡箍或螺纹连接靶材和端头/支撑端等；支持磁场构型、冷却与密封结构定制，适配不同功率与工艺；

设备改造：可根据客户现有设备情况进行定制改造，也可匹配客户现有进口端头、磁路等部件，组成完整阴极产品

工艺适配优化：可根据镀膜材料、膜层要求、基片特性优化磁场与功率配置，实现最优镀膜效果