ICP等离子体源

ICP等离子体源

产品原理：

朗为科技依据CCP+ICP原理，通过13.56MHz射频电源进行等离子激发，独特的环绕激发方式极大程度的提高离化率，提升使用效果。

核心特点:

• 线圈在大气侧：不暴露在真空环境中，有效降低污染风险；

• 单线圈激发：简化结构设计，降低射频干扰，提升系统稳定性与兼容性；

• 环绕激发：通过环形电磁场实现均匀激发，大幅提高电离率；

• 可选栅网设计：可根据工艺需求选配栅网结构，精准控制离子能量；

• 牢固结构设计：采用高强度、高稳定性的模块化结构，有效长度可达2 米以上；

                        束流VS功率                                                     能量VS功率

束流线性响应：随功率增平缓线性增长，确保了工艺控制的精准性，工艺窗口宽。

能量独立稳定：功率调节不影响离子能量，有效避免了高能粒子冲击，确保低损伤工艺特性。