对向低损伤阴极

对向低损伤阴极

平衡高溅射效率和低基片损伤，专门为温度敏感或者结构脆弱的基片优化的设计

核心特点：

l 较低的离子沉积能量

l 对基片损伤更低

l ITO膜电阻更低，表面平滑

l 成膜温度低，适合柔性基材

基本参数：

*提供特殊工艺阴极定制服务

低损伤阴极在全工况下均能将基片温升控制在极低水平，显著优于常规阴极，有效降低了

基材热变形与损伤风险，特别适配柔性基材、热敏材料的镀膜工艺。