平面圆形阴极

圆形平面阴极

技术参数：

特点：

多种磁场可选，适用于不同靶材

磁路模块化，可单独更换

磁钢不泡水，避免磁钢腐蚀退磁

多种配件可供选择

可提供超高真空解决方案

可选配件：

角度调节

防交叉污染环

挡板

匀气环

功能：

用于各类金属和非金属靶材的溅射沉积，生产装饰、光学及各类功能膜层

应用范围：

真空镀膜领域生产装饰、光学和各类功能膜

宽靶面刻蚀：

高均匀性：

圆形平面旋转磁场阴极

通过旋转磁路技术提升靶材利用率和膜层均匀性。突破传统平面靶材利用率瓶颈，实现全靶面均匀刻蚀

全靶面刻蚀：旋转磁场消除跑道效应，刻蚀均匀；

高利用率：利用率从30%跃升至75%，降本显著；

高均匀性：动态磁场优化分布，保障镀膜一致性；

高效沉积：支持高功率溅射，速率更快、工艺稳；

灵活定制：磁路可按靶材尺寸与工艺需求调整；