柔性基材清洗源
工作原理:
基于磁控溅射原理,通过等离子体轰击靶板产生溅射粒子,定向作用于工件表面,实现基材表面清洗与活化,有效提升镀膜层结合附着力。
设备具备束流大、调节便捷、离子能量适中的优势,适配 PET、PP 等柔性薄膜高速镀膜的前处理工艺需求。
产品特点:
能量低,对基材的损伤显著降低
束流大,膜层附着力有效提升
可双面清洗,占用空间小,更高效
二元布气,清洗均匀性好

该曲线为柔性基材清洗源的伏安特性曲线,在 5–20A 工作电流范围内,电压随电流近似线性上升,表明离子源放电状态稳定、工艺可控性良好,可保障柔性基材清洗过程的一致性与均匀性。