平面条形阴极
基本参数:

特点:
1.高靶材利用率>40%,大大降低靶材费用
2.宽靶面刻蚀,减少打火风险
3.磁铁与水隔离,延长使用寿命
4.高场强/高利用率/闭合磁场
5.膜厚均匀性高,有效均匀区宽
6.灵活的气路分布,方便调节膜厚均匀性
功能:
用于各类金属和非金属靶材的溅射沉积,生产装饰、光学及各类功能膜层
应用领域:
真空镀膜领域生产装饰、光学和各类功能膜
安装方式:

以下溅射后靶材效果,全为我厂测试后实拍
本产品刻蚀图:


产品实拍图:

部分案例:

CPL100-E-1400(射频平面阴极) CPL70-I-1050(三平面阴极)

CPL120-E-700(带线圈平面阴极) CPL100-I-1750(强磁侧装阴极)

CPL120-E-750(靶基距在线调节平面阴极) CPL120-I-1850(强磁内装阴极)