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柔性基材清洗离子源

柔性基材清洗离子源
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产品详情


产品特点:


利用磁控溅射原理,利用等离子体对轰击板进行溅射,溅射出的粒子射向工件,起到清洗活化基材表面的作用,增强镀膜附着力。束流大,方便调整、能量适中。适用PET/PP等薄膜高速镀膜的前处理。



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